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Micro e Nano Elettronica
Meccanica statistica: studia materiali composti da un grande numero di atomi a differenza della meccanica quantistica che studia il singolo atomo dal punto di vista macroscopico. Con la meccanica quantistica lo spazio per ogni atomo è se lo è l'atomo.
Devo utilizzare la meccanica statistica per studiare il comportamento del materiale. Se le dimensioni dei composti si riducono si riduce il numero di particelle. Meccanica quantistica come descrizione del comportamento della singola particella.
Micro - Nano
- 10-6
- 10-9
Ordine delle grandezze in gioco:
- Meccanica quantistica
- Meccanica statistica
- Elettromagnetismo
Fisica dello stato solido
Elettronica
- Circuiti di silicio
- Micro e Nano Elettronica
- System on Chip (SoC)
- Blocchi Compositi (amplificatore e microprocessore)
- Circuiti a composti discreti (PCB)
- Sistemi Elettronici
- Circuiti integrati (sistemi complessi)
Sistemi complessi su silicio
Elementi base: condensatori e amplificatori
Teoria a bande dei solidi
livelli energetici discreti degli atomi. Se gli atomi si avvicinano, i livelli energetici si accorpano, poiché intervengono le interazioni degli elettroni. I livelli energetici possono trasformarsi in bande energetiche (serie di livelli vicinissimi ed energeticamente disposti in intervalli brevi, quasi continui) di ampiezza βE: bande di conduzione o banda di energia maggiore; bande di valenza o di energia più bassa. Tra la banda di valenza e di conduzione c’è una banda di energia più alta in cui gli elettroni non possono essere eccitati: banda proibita.
→ banda di conduzione βE banda proibita → banda di valenza
A temperatura ambiente, gli elettroni possono acquisire energia per passare nella banda di conduzione. All’aumentare dell’energia, gli elettroni acquistano libertà. La temperatura ha la sua importanza. I semiconduttori: germanio, silicio, stagno, zinco, carbonio...: si differenziano dai semiconduttori per gli gap energetici. Il silicio è semiconduttore. Se un cristallo ha molti lacuini (→ metalli), la βE piccola e la introduzione dei livelli energetici è portata ad un comportamento terminabile. Nelle AI, silicio e simili, i nuclei rimangono stabili, mentre i semiconduttori si modificano. Una volta prodotta eccitazione → vanno trattati, e con grandi precisioni è bello realizzare un MOSFET e creare un contatto fra due materiali conduttori.
O Si O
Elettone libero
Il libero è quello di minore energia: muoversi (lacuna) all’esterno del semiconduttore.
Un semiconduttore è una trappola per l’elettrone libero; aumentando una temperatura o aumentando tutta la trappola per una facile conduzione in cui l’elettrone e il semiconduttore accoppiabili e di semiconduttori diversi → non polarizzabili nel comportamento determinati.
Il valore delle conducibilità e resistenza è differente verso una nuova libera oppure semiconduttore o altezza esterna: numero di lacune stabile con l’aumento del silicio o altezza o elevazione.
O Si BSi Si Si
Semiconduttore di tipo n
facile produzione di lacune
Semiconduttore di tipo p
produzione di elettroni nelle lacune
Al
L’energia che esce dalle celle degli elettroni a partire dai loro elettroni in una maniera innumerabile insieme al loro comportamento di tipo diverso → aumento conducibilità e inversamente → aumento di lacune.
Banda di conduzione
EG = (2 - 3)[1.27 eV(1+1.602.10^-12)EV BANDA DI VALENZA
Distribuzione al limite bosonico
Probabilità di occupazione di uno stato energetico di energia E:
EF livello di Fermi
EF = kβln[(nv/nc)]
T temperatura in kelvin
Equazione di continuità per P
- dF/dT + U · G - ∇ · SF = 0
- d/dT
Espansione generale dei semiconduttori
- ±U · G - ∇ · Sf
- ∇ · (e-)
- ∇ × E = ∂/∂t
- ∇ · × H = 3/∂T
- ±(EFi - EF)/κT
I semiconduttori di potenza varia a causa del rapporto del drogaggio che viene creato.
All'equilibrio EF = cost lungo tutto il semiconduttore
- E = ∂/∂t
- ∇×
- ∫||=
- mi = μe*E
Equazione di Poisson
- ∇ × (̶E)
- ∂2 [∇ · (PM + ND + NA)] [εκ/α2]
- E = -∇φ
Rezz VT 40 mV
IS = qVT/kT
Dp = kT
Dp/Lp
I = IS(eV/VT-1)
Modello fisico
V70 IS = IS eqVBE/kT
Bipolo non lineare
I = IS(eqV/kT-1)
I3 = q/LP(DPn/LP DMn/LP)
due livelli di tensione che si distinguono facilmente \&circato digitale
MPO (MAGGIORITARIA)
V
G
PMO (MINORITARIA)
IP = aumento della corrente di potenza
zero
Corrente di piccola perΔ
(V) VT =0
VON OFF
V30 Il quieshe
V10 IS = -IS
Per le condizioni di antrera dei SiO2 :
MPo(0) = -qV/kT
P(0) =k/kT
Se V10 P(0) \ρ(p) tende a 0
sottratto dalla regione di carico spaziale .
MPP
Φ(t)
Ci
NA
q/No
= qNbo
NA DL = NS L-
flusso di elettroni. Si perde in riduzione la barriera di potenziale
(rimane la componente diffusa). Si devono gli elettroni
giungere dal bulk al substrato di dreno, determinata una
corrente in direzione opposta.
possibile di regione di tensione, un potenziale attraversa la
stessa porta elettroni una in generata
di corrente controllata in barrierà.
L
MOSFET A CANALE n
Cox (VGs - VT) - ds
Gd (y) = Qs(y) - QD (y)