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Analogica
→ Segue v(t) analogica continuata nel tempo a rete ampiezza; vincolata e filtrata.
Silicio → semiconduttore con ke di vuoto, utilizzato nel legame covalente con un Si.
Processi di conduzione Metalli
→ I livello sesso nodo pur pâ è di vuoto, bordi di massa.
♣ • • •
No E &hat; moto casuale con urti cambianti, d.c
S¹ E → moto preferenziale degli e
i:
♣↑
quindi I → 9nU/e
n i
Inoltre → J = I/A
quindi J = 9nU/e = 6E
Semiconduttori
Considero: le Sr.
Ok no e³ liberi, in quanto impagliati nec l, si trova in ∨
Temp. amb → moto di agitazione termica e conseguente rottura dei legami. E quindi e³ è libero di eà
n± (n¹ ≤ densit¹ di e liberi)
&middle; n³ = densidade (tipi di metallo)
moversi ↔ creando una lacuna di posizione cui sar¹ associato uno +
Ic → banco banda di conduzione
Eυ → (B)
Quando E ¹ Eg, gli e- saltano in ³ libero di lacune di ∨
p = densit¹ lacune
n = densit¹ e
→ Act. eq; termodinamico: n = p = n
Se applico E: J = 9 (n/mln + p/mp) → E GE
Per¹¿
J/n = 9 ’,5 mp
C³ =St sarebbe più ¹ le lacune in ²
Aluncio lo conduibili e troppo bom (Si) < Eche si pdra vie^i sangue n. p
per aumente la ¹ S pers^u ² semiconduttori drogati inp.
N.B. n e p non possono esse aumentati contemporaneamente.
Drogaggio N ➔ In fase di produzione immette un drogante del V gruppo (P).
- 5 e- di valenza ➔ 4 per legarsi + 1 (B).
- ND concentraz di atomi di P con D = Donore (P).
Drogaggio P ➔ Elemento del III gruppo (B).
- 3 e- di valenza, utilizzato per legarsi, ma senza crea vacanza.
- NA concent di lacune con A = Accettore (B).
Si assume il prof di completa ionizzazione:
- n = p = NA
- n ≠ ND➔ pacco: attuare
n≫ni (se tipo n)
p≫ni (se tipo p)
Legge di Azione di Massa
np = ni2
(p = ni2 / p)
Equ di Neutralità del Cristallo
p + ND = n + NA
Combinando approssimato (2) e (3) trevo *
n=n0 ➔ p + ND = n ➔ n : ND > n ➔ yes n: ND➔ n ➔ n: ND➔ n ➔ ND➔ n ➔ ND➔ n ➔ ND➔
nD ≫ ni ➔ e / ND^2 / N^2 / Nд v / Nż ➔
Processo di Diffusione
Si verifica un'inf C con gradiente di concentrazione di drogante. Le molecole si spostano da zone