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Sol-gel, dip coating e spin coating

Preparazione SiO2

SiO2 TEOS Si(OEt)4

Idrolisi: Si(OEt)4 + H2O → Si(OEt)3(OH) + EtOH

Si(OEt)4 + H2O → Si(OEt)2(OH)2 + 2EtOH

Condensazione: Si(OEt)2(OH)2 = Si(OEt)(OH)3 (OEt)2 Si(OH) 0 = Si(OEt)2

Per avere soluzioni in grado di bagnare il substrato è preferibile da catalisi acida.

Rutenio

Ru (bpy)32+ → attiva tutte le proprietà di luminiscenza nel visibile.

Dip-coating

Assorbente a pressione redditizia 2/3.

Spin-coating

Meccanismo soluzione più viscosa, post trattamento generale K/L(u) 962.

O-led: organic light emitted diodes

Strato emittente > strato conduttore > substrato, contatti per anodo e catodo.

Semiconduttori organici:

  • Semiconduttore p
  • Semiconduttore n
  • Buca accettore e- portatori

BdC BdV EF EF giunzione p-n in contatto campo elettrico EF e- | e- v vm carico polarmente equilibrio contrario.

Potenziale -alimentazione potenziale + elettronitrasmigra da n a p buca da p a n nella giunzione si ricombinano buca ed elettroni.

Elettrone occupa la buca livello energetico poi basso energia emissione di luce (si prende dal energy gap).

Ripetizione: sol-gel, dip coating, spin coating

Preparazione SiO2: Si usa TEOS Si(OEt)4

Idrolisi: Si(OEt)4 + H2O → Si(OEt)3(OH) + EtOH

Si(OEt)3(OH) + H2O → Si(OEt)2(OH)2 + EtOH …

Condensazione: Si(OEt)2(OH)2 + Si(OEt)2(OH)2 → (OEt)2Si(OH)-O-Si(OEt)2

Per avere soluzioni in grado di bagnare il substrato è preferibile la catena.

Ru(bpy)32+

→ Al buio perde proprietà di luminescenza irreversibile.

Dip coating

Assorbimento a spessore «relativo» 2/3.

Spin coating

→ Mettendo la soluzione più viscosa → post trattamento perché x K(w) 962.

O-led: organic light emitted diodes

Strato emettitore, strato conduttore, substrato, contatti per anodo e catodo.

Giunzione p-nn - citi c - pV elettrodo, elettroni → emissione di luce (↓ si prende dall'energy gap).

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Scienze chimiche CHIM/06 Chimica organica

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