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Riassunto di Tecnologie e materiali per l'elettronica

1 - Richiami sulla struttura a bande
2 - Semiconduttori
3 - Struttura cristallina
4 - Difetti cristallini
5 - Caratterizzazione
6 - Caratterizzazioni elettriche
7 - Tecniche che utilizzano il laser
8 - Tecnologia del vuoto
9 - Aree a contaminazione
10 - Caratterizzazioni strutturali
11 - Substrati
12 - Tecniche di crescita epitassiale
13 - Deposizione... Vedi di più

Esame di Tecnologie e materiali per l'elettronica docente Prof. C. Papuzza

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DESCRIZIONE APPUNTO

1 - Richiami sulla struttura a bande
2 - Semiconduttori
3 - Struttura cristallina
4 - Difetti cristallini
5 - Caratterizzazione
6 - Caratterizzazioni elettriche
7 - Tecniche che utilizzano il laser
8 - Tecnologia del vuoto
9 - Aree a contaminazione
10 - Caratterizzazioni strutturali
11 - Substrati
12 - Tecniche di crescita epitassiale
13 - Deposizione di strati metallici e dielettrici
14 - Deposizione di strati dielettrici
15 - Processi di diffusione
16 - Tecniche litografiche
17 - Litografia a raggi X
18 - Tecniche di incisione dei materiali
19 - Impiantazione ionica
20 - Fibre ottiche
21 - Laser a semiconduttore
22 - Caratteristiche di dispositivi laser
23 - Fotorivelatori
24 - Packaging
25 - Dispositivi ottici integrati
26 - Dispositivi per sistemi di comunicazione
27 - Dispositivi in fibra ottica
28 - Transistore MOS
29 - Tecniche di interconnessione
30 - Strumenti CAD
31 - Interconnessioni
32 - Affidabilità e degradazione dei componenti
33 - Meccanismi fisici di degradazione


DETTAGLI
Corso di laurea: Corso di laurea in ingegneria informatica
SSD:
A.A.: 2018-2019

I contenuti di questa pagina costituiscono rielaborazioni personali del Publisher seagirl1987 di informazioni apprese con la frequenza delle lezioni di Tecnologie e materiali per l'elettronica e studio autonomo di eventuali libri di riferimento in preparazione dell'esame finale o della tesi. Non devono intendersi come materiale ufficiale dell'università Politecnico di Torino - Polito o del prof Papuzza Claudio.

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